等離子體低溫刻蝕是一種針對高深寬比結構的幹法刻蝕技術。
我們所達到的最小線寬爲0。米,最高之深寬比可達
而中壓下電子束焊接時的溫度峯值較低,且焊縫較寬,焊縫深寬比較小。
採用線*電位掃描和電化學交流阻抗等電化學測量技術,對高深寬比掩膜條件下微電鑄鎳的電極反應動力學過程進行了初步研究。
採用深度光刻與電鑄技術相結合的方法,較好地解決了大深寬比的電火花工具電極的製造問題。