通过磁控反应溅*，在玻璃基底上制备了不同溅*温度下的氧化钛薄膜。
因为先被切开的切口处会因为血压的关系溅*出血液,这也是喷溅型血渍的成因。
管间距及液膜溅*损失对蒸发换热特*影响很小。
采用扫描透*电镜（STEM） ，研究了铝上磁控溅*沉积铀薄膜的形貌、组织、结构以及铀薄膜的生长模型。
在纳晶敏化太阳能电池中，载铂对电极的制备通常有电沉积、溅*和热解等方法。
现在反应溅*法已被广泛应用于切削*具、成型工具、注*模具和诸如冲头和冲模之类的通用器具，以增强其耐磨*和使用寿命。
高z材料因其高熔点和低溅*率近年来受到越来越多的关注，但是难熔材料的脆*等问题仍然是这类材料应用的一大障碍。
用*频反应溅*法制备出bcn薄膜。
过高的溅*功率使薄膜以非晶态的形式存在.
所述的合金组合物优选形成为用于薄膜应用领域的溅*靶。
一是因畸变层与非畸变层的扩散系数不同，结果由扩散导致交界区出现原子富集；二是离子轰击的溅*作用和溅*衰减效应使得出现内层的浓度峰。
当剂量增加到足以溅*掉第一代表面发泡时，针孔形成，针孔的密度随剂量增加而增加。
在理论上考虑了原子级联碰撞过程中的能量和动量传输的不对称*，给出了一个与实验结果相符的同位素溅*角分布表达式。
利用磁控*频溅*技术制备了ito薄膜。
在不同条件下用*频溅*方法制备了氮化碳薄膜。
在双元靶严格解的基础上，*了泽优溅*与原子的半径大小无关。
通过溅*的真空蒸发镀膜使超薄切片机上使用的玻璃*口上带有一层钨膜。
反应溅*中氧分压对薄膜的影响也很大，较高的氧气分压有助于较好结晶的二氧化钛薄膜的生成。
脉冲溅*是一种新型的、用于消除直流反应溅*中异常放电的技术。
研究了用铟锡合金靶直流磁控反应溅*制备ito透明号电膜。
在离子束溅*镀膜机的膜厚控制系统的研究中，由于采用了现代检测手段，使测量精度大大提高。
*频溅*沉积的薄膜均匀*和致密*要优于直流溅*沉积的薄膜。
为改善*频溅*法制备的防水透湿涂层的外观和拒水*，对涤纶织物基底上的溅**碳高分子膜的泛黄问题进行了研究。
采用*离子溅*和x*线光电子能谱相结合的方法，检测焦**盐镀铜层和铁基体界面区含氧量的变化，*了氧化层的存在。
采用磁控*频溅*法制备光波导用玻璃薄膜。
对于反应溅*，可通过连续改变反应气体流量制得化学成分比连续变化的梯度薄膜。
在不同的衬底温度下用*频溅*方法制备了氮化碳薄膜。
春雨啊，哗哗地下，雨珠落在湖面上，像珍珠落在玉盘里四面溅*；雨珠落在干土上，地皮上陷下一个小坑，像草原姑娘脸上的笑靥。雨好牧草就好，牧草好牲口就好，牲口好牧民的生活就好。
介绍了等离子体化学工艺，特别着重介绍了溅*镀膜与等离子体化学气相沉积在粉末冶金中的应用。
同位素角效应是一次溅*效应，还是二次溅*效应？
分析了氘饱和状态下液态锂作为包层流动液帘表面的溅*问题，得到了氘饱和状态下液态和固态锂的溅*产额。
用*频溅*的方法制备得的钆钴膜具有垂直于膜面的单轴各向异*。
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