製備矽半導體材料必須先得到高純矽。三**矽*(SiHCl3)還原法是當前製備高純矽的主要方法，生產過程示意圖如...

問題詳情：

製備矽半導體材料必須先得到高純矽。三**矽*(SiHCl3)還原法是當前製備高純矽的主要方法，生產過程示意圖如下：

（1）寫出由石英砂製取粗矽的化學方程式                                    ；

由純SiHCl3製備高純矽的化學方程式____________________________________。

（2）某玻璃廠以石英砂、純鹼、石灰石為原料生產普通玻璃。石英砂在高溫條件下分別與純鹼、石灰石反應得到相應矽*鹽。請寫出有關反應的化學方程式。

         ①_________________________________________________；

         ②_________________________________________________。

（3）該普通玻璃的組成為（質量分數）：Na2O 13% ，CaO 11.7% ，SiO2 75.3%。

①以氧化物組成的形式表示該玻璃的化學式：                        。

②若該廠每天生產10 t 玻璃，石英砂原料利用率按95%計算，請寫出每天消耗石英砂質量至少為                           （保留2位有效數字）。

【回答】

（1）SiO2＋2CSi＋2CO↑    SiHCl3＋H2Si＋3HCl

（2）Na2CO3＋SiO2Na2SiO3＋CO2↑     CaCO3＋SiO2 CaSiO3＋CO2↑

（3）Na2O·CaO·6SiO2         （4）7.9t

知識點：非金屬元素的單質及其化合物

題型：綜合題