對掩模特徵尺寸及缺陷進行檢測可以減少積體電路的廢品率,因此開展這方面的研究具有重要意義。
第二個提高特徵尺寸可刻*的方法是增加光刻成像工具的數值孔徑以及採用浸液式光刻。
微電子技術突飛猛進,工藝特徵尺寸已減小到0.18微米以下,0.13微米的工藝已經成熟。
納機電感測器指基於納機電效應的、其特徵尺寸在奈米級的感測器。
當特徵尺寸進入到微米、亞微米量級時,需要克服“極限”束縛,增加器件的整合度。
仿生學和空氣動力學研究均表明,對於特徵尺寸相當於鳥類或者昆蟲的微型飛行器來說,撲翼飛行器要優於固定翼和旋翼飛行器。
不同濾層厚度、濾速和加*比ALT等條件下的過濾試驗結果表明:濾層中單元濾床的特徵尺寸的變化僅與空隙率有關。