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高純度的單晶硅是製做電子集成電路的基礎材料。工業上製備高純硅的化學反應原理為:①SiO2+2CSi+2CO②S...

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問題詳情:

高純度的單晶硅是製做電子集成電路的基礎材料。工業上製備高純硅的化學反應原理為:

①SiO2+2C高純度的單晶硅是製做電子集成電路的基礎材料。工業上製備高純硅的化學反應原理為:①SiO2+2CSi+2CO②S...Si+2CO②Si+3HCl高純度的單晶硅是製做電子集成電路的基礎材料。工業上製備高純硅的化學反應原理為:①SiO2+2CSi+2CO②S... 第2張HSiCl3+H2③HSiCl3+H2高純度的單晶硅是製做電子集成電路的基礎材料。工業上製備高純硅的化學反應原理為:①SiO2+2CSi+2CO②S... 第3張Si+3X

反應①製得粗硅,通過反應②③進一步得到高純硅;三*硅*(HSiCl3)的沸點是 31.8℃.下列有關説法不正確的是(  )

A.反應③中X 的化學式為 HCl 

B.三*硅*由*、硅、*三種元素組成 

C.三*硅*中硅、*元素的質量比為 1:3  

D.反應②③實現了硅元素的富集,將粗硅轉化為高純硅

【回答】

【分析】根據給出的轉化關係對應的過程分析每個對應的問題,或者直接分析每個問題,從給出的信息中找對應的信息。

【解答】解:

A、③HSiCl3+H2高純度的單晶硅是製做電子集成電路的基礎材料。工業上製備高純硅的化學反應原理為:①SiO2+2CSi+2CO②S... 第4張Si+3X,根據質量守恆定律可知,反應③中X 的化學式為 HCl.正確;

B、三*硅*(HSiCl3)由*、硅、*三種元素組成。正確;

C、三*硅*(HSiCl3)中 1:3是硅、*元素的原子個數比而非質量比。錯誤;

D、反應②③實現了硅元素的富集,將粗硅轉化為高純硅。正確;

故選:C。

【點評】讀信息,從中獲得解答題目所需的信息,所以在解答題目時先看解答的問題是什麼,然後帶着問題去讀給出的信息進而去尋找解答有用的信息,這樣提高了信息捕捉的有效*。

知識點:各地中考

題型:選擇題

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