本文敍述了輝光放電等離子體源的等離子體源離子注入。
研究了在熱*極輝光放電等離子體化學氣相沉積金剛石膜過程中,熱*極輝光放電特*與金剛石膜沉積工藝的關係。
本文在離子氮化裝置及離子氮化工藝試驗研究的基礎上,根據氣體放電理論,提出並討論了雙層輝光放電現象。
微空心*極放電是一種新穎的、非平衡、高氣壓輝光放電。
依據微空心*極自持的輝光放電結構,設計了一款新穎的微小放電結構。
鋼表面納米、亞微米尺度薄膜。元素深度分佈的定量測定。輝光放電原子發*光譜法。
在此基礎上,根據大氣壓下有利於均勻輝光放電的放電條件,最終推算出有利於均勻輝光放電的最小電源頻率。
該激光器的脈衝放電行為由旋轉火花開關和高壓脈衝觸發器進行控制,並通過自動翻轉電路實現對稱張氏電極之間的均勻輝光放電。
本文研究了45鋼輝光放電膏劑滲硼工藝。
大電流熱*極輝光放電用於等離子體化學氣相沉積金剛石膜,有效地提高了沉積速率和膜品質。
本文介紹了本實驗室研製的瞬短脈衝輝光放電飛行時間質譜儀。
為研究輝光放電釺焊對材料的適應*,對幾種常用的黑*金屬和有*金屬進行了輝光釺焊。
文中論述了等離子體表面改*的作用機理、優點,介紹了產生大氣壓直流輝光放電和交流輝光放電的方法。
本文討論磁場中中等低氣壓弧光放電與輝光放電的正柱理論。
這些不同的輝光放電的鞘是低得多。