試驗獲得的激勵電壓、頻率對誘導氣流速度影響的定量關係有助於進一步揭示輝光放電等離子體EHD的機理,也為等離子體在流動控制方面的應用奠定了基礎。
*頻輝光放電等離子體在微電子及半導體薄膜材料生長等方面有着廣泛的應用。
它產生的高氣壓高電流密度輝光放電等離子體能夠用來製作平面等離子體顯示或光源。
本文敍述了輝光放電等離子體源的等離子體源離子注入。
研究了接觸輝光放電等離子體降解水體中的**品紅。
研究了在熱*極輝光放電等離子體化學氣相沉積金剛石膜過程中,熱*極輝光放電特*與金剛石膜沉積工藝的關係。
本論文通過對反應器結構的改進,成功地研製出了大氣壓反常輝光放電等離子體化學反應器。