最後給出生成微透鏡列陣掩模圖形的實例。
結果表明，光刻膠熱熔技術是一種簡單實用的微透鏡陣列製作技術
在光刻熱熔成型以及電鑄複製得到的柱面微透鏡陣列鎳模板基礎上，採用鑄塑工藝得到了高質量的PMMA柱面微透鏡陣列。
通過反應離子刻蝕可以將光刻膠微透鏡圖形轉移至這種高*能的聚合物材料上。
採用MMA單體與其聚合物PMMA及摻雜劑的混合溶液，以按需滴定法制備了摻雜若丹明6G的微透鏡陣列。
此外，我們也想研究「修正牛頓力學」的微透鏡和弱透鏡。
每個微透鏡都作為超級像素髮揮其功能。
通常採用單個透鏡，透鏡組或者光纖微透鏡的方式來改善半導體激光器的出*光束質量，提高耦合效率和容忍度。
並利用ZEMAX軟件對微透鏡列陣進行*，基於惠更斯子波直接積分的算法計算得到了微透鏡列陣焦平面上的光場強度分佈。
利用矩陣光學方法，分別推導了高斯光束經雙平凸鏡耦合簡和自聚焦微透鏡兩種耦合系統聚焦後的束腰寬度和像距的計算公式。
一種濾光器，包括基膜、在該基膜中彼此等間隔隔開的多個光吸收單元和在該基膜上的聚焦層。該聚焦層可以包括與該光吸收單元對準的多個長脊或微透鏡。
結果表明雙曲面微透鏡有較高的耦合效率
介紹了利用光刻膠熱熔法制作微透鏡陣列這種簡單、實用的技術。
對特種光敏玻璃及其微透鏡列陣的成型機理及製作工藝進行了研究.
微透鏡陣列就是其中一種重要的微光學元件。
為此，本文提出由成本低廉的柱面透鏡板和狹縫光柵組合而成的仿微透鏡陣列用於集成成像。
建立了平端光纖與錐端微透鏡光纖對耦合的理論模型，得到耦合係數的計算公式。
討論了製作適用於近場集成光學頭中的凸形、凹形微透鏡和折衍*複合微透鏡的灰度掩模技術。
本文詳細闡述了光刻熱熔法的基本原理及微透鏡設計方法，並討論了工藝參數對微透鏡列陣質量的影響。
傳統的MOS圖像傳感器需要採用聚合在電路板上的微透鏡和染*RGB顏*過濾器，這種脆*材料非常易碎，而且在日曬下和温度變化時極其易受影響。
並且將四片微透鏡陣列耦合，形成一個深紫外光刻的象的多孔徑微小光刻系統。
提出微透鏡陣列與轉鏡相結合的大口徑激光光束掃描方法。
請參照圖七a，具有個別微透鏡元件710-A之微透鏡陣列可用以將光線聚焦在光電二極體上。
介紹了採用光刻離子交換工藝製作平面交叉型微透鏡陣列的方法。
研製了一種基於微透鏡陣列的光尋址電位陣列傳感器，用以實現同一溶液中多種重金屬離子的同時檢測。
在粗跟瞄系統中，微透鏡陣列技術作為一種響應速度快，偏轉範圍較大的技術日益受到人們的關注。
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