1、介紹了一種新的鍍膜技術—過濾式真空電弧離子鍍膜技術。
3、本文介紹了多孤離子鍍膜技術中卡具的設計原則,裝卡方式及裝卡量對膜層質量的影響。
2、摘要:本文詳細介紹了氣體離子源增強磁控濺*(氣離濺*)反應離子鍍膜技術和系統配置。