本文將主要敍述等離子濺*鍍膜的原理與方法,並且簡單介紹磁控管濺*儀和鋨等離子鍍膜儀等。
本實用新型是一種柱狀靶等離子鍍膜機。
中文關鍵詞:氣離濺*、離子源、陽極層流、濺*、氮化鈦、離子鍍膜、中頻、脈衝直流。
一百本實用新型是一種柱狀靶等離子鍍膜機。
所設計的冷電弧*極在用於全金屬結構氬離子激光器和離子鍍膜裝置中時,均取得成功結果。
通過對靶座結構的改變,使得靶面不再存在其他材質,由此提高了電弧離子鍍膜膜層的純度。
介紹了一種新的鍍膜技術—過濾式真空電弧離子鍍膜技術。
也可以單獨作為磁控濺*或多弧離子鍍膜機使用。
採用電弧離子鍍膜方法,以高純石墨為碳離子源在PM MA樹脂義齒表面沉積類金剛石膜。