然後她演示了基本鍵控和技術,用於細化遮罩,使用蒙版和修正顏*。
着重從基本界面力,即表面張力、范德瓦耳斯力和基本鍵合力的形成與變化,分析了二氧化硅表面粘着力隨濕度的增大先增後減的原因,探討了粘着力的產生機理。