7、為了滿足製備較厚低摩擦係數類金剛石薄膜（DLC）耐磨鍍層的實際需求，對在等離子增強化學氣相沉積的類金剛石薄膜（W-DLC）中摻鎢進行了系統研究。
11、為了改善DLC膜的*能，摻金屬的類金剛石薄膜從而成為人們研究的重點。
15、採用*頻-直流等離子體增強化學氣相沉積技術在單晶硅襯底上沉積了類金剛石薄膜
19、探討了用液相電解沉積法在鈦合金表面製備類金剛石薄膜的新方法。 討論了不同沉積條件對膜的影響。
1、最後將金剛石薄膜和類金剛石薄膜進行了簡單比較。
5、本論文采用電弧離子鍍技術，純氬氣氣氛下，在AZ合金上製備了類金剛石薄膜及鈦摻雜類金剛石薄膜。
10、分析了類金剛石薄膜的硬度和工藝參數的關係，討論了薄膜的耐磨*和化學穩定*。
16、並論述不同工作參數的激光對類金剛石薄膜的激光破壞行為及其損傷閾值。
21、本文通過實驗表明採用電化學澱積法，選擇合適的電解質溶液和製備工藝條件，可以在液相中獲得類金剛石薄膜。
4、喇曼光譜研究表明，這種薄膜是典型的無*類金剛石薄膜。
12、研究了利用低能離子束技術，在單晶硅片等多種基體表面形成類金剛石薄膜（DLC膜）。
18、採用SP0806AS中頻磁控濺*鍍膜機，在硅(100)和高速鋼基體上，採用雙石墨靶在不同功率下沉積了類金剛石薄膜。
3、標籤類金剛石薄膜紅外界面。
13、類金剛石薄膜是80年代初出現的新型非金屬薄膜材料之一，目前已受到了人們廣泛的注視並引起了人們的極大興趣。
22、類金剛石薄膜具有負電子親和勢且易製備，作為冷*極場發*材料在平板顯示領域有潛在的應用價值而引起了人們的極大興趣。
9、利用脈衝多弧離子鍍技術在硅基底上沉積類金剛石薄膜.
2、成功地用該設備製備出類金剛石薄膜。
17、利用脈衝真空電弧鍍的方法，在硅基底上沉積類金剛石薄膜，研究薄膜的光學*能、光學常數和離子能量關係。
14、採用過濾*極電弧沉積方法有可能製成無宏觀粒子的類金剛石薄膜。
20、利用電子迴旋共振（ECR）微波等離子體輔助化學氣相沉積技術、工作氣氛為**，在光學玻璃襯底上得到了光滑、緻密、均勻的類金剛石薄膜。
8、本文給出了華北光電所研究類金剛石薄膜的結果。
6、文中還提出了在類金剛石薄膜進一步開發、研究及應用中仍需解決的一些工藝及技術問題，描述了製備大尺寸均勻*類金剛石薄膜的可行*方案。
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