光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如图（部分试剂、反应条件和产物已略去）：已知：Ⅰ．（R1、R2为烃基...

问题详情：

光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如图（部分试剂、反应条件和产物已略去）： 已知：Ⅰ．（R1、R2为烃基或*） Ⅱ．（R1、R2为烃基） （1）A分子的名称为______，B分子中所含官能团的名称为______，由C到D的反应类型为______； （2）乙炔和羧*X发生加成反应生成E，E的核磁共振*谱有三组峰，且峰面积比为3：2：1，E能发生水解反应，则E的结构简式为______； （3）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为______； （4）C的同分异构体满足下列条件： ①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显*反应；②分子中只有一个环状结构。满足上述条件的同分异构体有______种。其中苯环上的一*取代产物只有两种的同分异构体的结构简式为：______ （5）根据已有知识并结合本题信息，写出以 CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图（无机试剂任用，合成路线流程图示例见本题题干）______。

【回答】

苯*醛   碳碳双键、醛基   氧化反应   CH3COOCH=CH2     3    

知识点：烃的衍生物单元测试

题型：推断题