光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂、反应条件和产物已略去):已知：Ⅰ．（R1，R2为烃基...

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光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂、反应条件和产物已略去):

已知：

Ⅰ．（R1，R2为烃基或*）

Ⅱ．（R1，R2为烃基）

（1）B分子中所含官能团的名称为 ▲ ，由F到G的反应类型为 ▲ ；

（2）乙炔和羧*X发生加成反应生成E，E的核磁共振*谱有三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E加聚后产物F的结构简式为 ▲ ；

（3）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为 ▲ ；

（4）C的一种同分异构体满足下列条件:

①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显*反应

②苯环上的一*取代产物只有两种。写出该同分异构体的结构简式: ▲ 。

（5）根据已有知识并结合本题信息，写出以CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任用,合成路线流程图示例见本题题干)。 ▲

【回答】

（1）碳碳双键、醛基（2分）水解（或取代）反应（2分）

（2）（2分）

（3）（2分）

一定条件

光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂、反应条件和产物已略去):已知：Ⅰ．（R1，R2为烃基... 第5张

（4）（2分）（5）（5分）

知识点：烃的衍生物单元测试

题型：推断题

Tags：r2 光敏 r1 略去光刻胶

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