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发表于:2020-01-31
问题详情:下列有关物质的*质与用途具有对应关系的是A.FeCl3溶液显**,可用于刻蚀电路板 B.CaO具有吸水*,可用作食品脱氧剂C.NH4Cl具有**,可用于金属除锈 D.活*炭具有还原*,可用于水质净化...
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发表于:2020-10-26
问题详情:***是一种弱*,可用来刻蚀玻璃。已知25℃时:①HF(aq)+OH-(aq)=F-(aq)+H2O(l) △H=-67.7kJ·mol-1②H+(aq)+OH-(aq)=H2O(l) △H=-57.3kJ·mol-1在20mL0.1mol·L-1***中加...
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发表于:2021-09-20
问题详情:下列说法正确的是A.硅材料广泛应用于光纤通讯 B.工艺师利用盐*刻蚀石英制作艺术品C.水晶项链和餐桌上的瓷盘都是硅*盐制品 D.粗硅制备单晶硅不...
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发表于:2021-07-27
问题详情:下列能用于刻蚀玻璃的溶液是A.盐* B.硫* C.** D.***【回答】D知识点:硅盐工业简介题型:选择题...
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发表于:2019-10-27
问题详情:下列物质可用来刻蚀玻璃的是( )A.盐* B.氨水 C.*** D.纯碱【回答】C知识点:硅盐工业简介题型:选择题...
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发表于:2019-12-16
问题详情:赏心悦目的雕花玻璃是用下列物质中的一种对玻璃进行刻蚀而制成的,这种物质是( )A. ...
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发表于:2021-07-17
问题详情:雕花玻璃是由下列物质中的一种对玻璃进行刻蚀制成的,这种物质是() A.盐* B.*** C.烧碱 D.纯碱【回答】B知识点:硅盐工业简...
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发表于:2022-09-02
问题详情:如下图为刻蚀在玻璃上的精美的花纹图案,则该刻蚀过程中发生的主要化学反应为()A.CaCO3+2HCl===CaCl2+H2O+CO2↑B.NaHCO3+HCl===NaCl+H2O+CO2↑C.Si+4HF===SiF4↑+2H2↑D.SiO2+4HF===SiF4↑+2H...
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发表于:2020-04-26
问题详情:三*化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下列有关该反应的说法正确的是( )3是氧化剂,H2O是还原剂 ...
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发表于:2021-11-22
问题详情:下列过程不涉及化学变化的是( )A.赤铁矿石炼铁 B.***刻蚀玻璃C.液氨制冷 D.自然界中氮的固定【回答】C知识...
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发表于:2019-06-11
问题详情:化学与生产生活密切相关,下列物质的用途及解释均正确的是选项用途解释A可用FeCl3溶液刻蚀铜制电路板Fe3+的氧化*强于Cu2+B碳与石英反应可冶炼粗硅碳的非金属*比硅强C四*化碳可...
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发表于:2020-11-30
给出了加速度计的制作工艺流程,研究了解决深反应离子刻蚀过程中的过刻蚀现象的方法。加速度计用普通的N型硅片制造,为了刻蚀高深宽比的结构,使用了深反应离子刻蚀(DRIE)工艺。衍*光学元件的...
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发表于:2017-11-17
介绍了以K璃为基体材料MOEMS器件的湿法刻蚀工艺对这种结构的形变特*进行了实验测试,考虑到测量误差与湿法刻蚀造成膜表面的不平整因素,测实结果与模拟结果较为相符。...
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发表于:2021-03-08
问题详情:三*化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生如下反应:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下列有关该反应的说法正确的是3是氧化剂,H2O是还原剂 3在潮湿空气中泄...
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发表于:2018-09-10
该器件采用一次深刻蚀与一次浅刻蚀,从而屏蔽掉“静态镜面”的影响。通常,所有暴露在刻蚀剂中的材料都具有一定的刻蚀速率。等离子体低温刻蚀是一种针对高深宽比结构的干法刻蚀技术。介绍...
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发表于:2021-11-28
本文报导用离子束刻蚀反*栅*散延迟线栅条以及深度加权技术。利用反应离子束刻蚀等微纳超精细加工而成的多层电介质结构反*镜可在高功率条件下实现啁啾脉冲的光谱整形。...
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发表于:2020-11-21
问题详情:如图为刻蚀在玻璃上的精美的花纹图案,则该蚀过程中所发生的主要化学反应为()A.CaCO3+2HCl═CaCl2+H2O+CO2↑B.NaHCO3+HCl═NaCl+H2O+CO2↑C.Si+4HF═SiF4↑+2H2↑D.SiO2+4HF═SiF4↑+...
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发表于:2020-08-21
问题详情:赏心悦目的雕花玻璃是用下列物质中的哪种对玻璃进行刻蚀而制成的( ) ...
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发表于:2021-08-23
问题详情:普通玻璃的主要成分之一是二氧化硅,能在玻璃上进行刻蚀,将其制成毛玻璃和雕花玻璃的物质是( )。 A.烧碱 B.纯碱 C.*** D.盐*【回答】C知识点:硅盐工业简介题...
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发表于:2020-08-11
问题详情:如图为刻蚀在玻璃上的精美的花纹图案,则该刻蚀过程中所发生的主要化学反应为()A.CaCO3+2HCl===CaCl2+H2O+CO2↑B.NaHCO3+HCl===NaCl+H2O+CO2↑C.Si+4HF===SiF4↑+2H2↑D.SiO2+4HF===SiF4↑+2H...
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发表于:2021-10-16
问题详情:用胶头滴管向用石蜡围成的“spark”凹槽内注入某溶液,即可在玻璃上刻蚀出“spark”的字样,则该溶液是()A.盐* B.*** C.烧碱 ...
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发表于:2019-02-25
问题详情:下列说法错误的是A.石英砂可用于生产单晶硅B.大多数金属在常温下是固体C.可用***在玻璃器皿上刻蚀标记D.飞机机身的复合材料大多是以金属为增强体、纤维为基体的复合材料【回答】D...
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发表于:2024-01-27
1、制作采用的是传统的光刻、刻蚀工艺。2、刻蚀工艺的分辨率是图形转移保真度的量度.3、电池片表面无划伤,但对于在制作过程中采用激光刻蚀工艺的电池的边沿刻蚀线除外。4、论文主要围...
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发表于:2022-01-13
问题详情:化学实验在化工和科学实验中有重要的作用,工业上可用**刻蚀废液(主要成分有Cu2+、Fe2+、Fe3+、H+、Cl−)制备碱式碳*铜,已知:Cu2+、Fe2+、Fe3+生成沉淀的pH(调节溶液pH促使离子转化...
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发表于:2020-06-22
问题详情:三*化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O===2NO+HNO3+9HF。下列有关说法正确的是A.NF3既是氧化剂,又是还原剂B.还原剂与氧化剂的物质的...