光刻膠是一種應用廣泛的光敏材料，其合成路線如下(部分試劑、反應條件和產物已略去):已知：Ⅰ．（R1，R2為烴基...

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問題詳情：

光刻膠是一種應用廣泛的光敏材料，其合成路線如下(部分試劑、反應條件和產物已略去):

已知：

Ⅰ．（R1，R2為烴基或*）

Ⅱ．（R1，R2為烴基）

（1）B分子中所含官能團的名稱為 ▲ ，由F到G的反應類型為 ▲ ；

（2）乙炔和羧*X發生加成反應生成E，E的核磁共振*譜有三組峯，且峯面積比為3:2:1，E能發生水解反應，則E加聚後產物F的結構簡式為 ▲ ；

（3）D和G反應生成光刻膠的化學方程式為 ▲ ；

（4）C的一種同分異構體滿足下列條件:

①能發生銀鏡反應，其水解產物之一能與FeCl3溶液發生顯*反應

②苯環上的一*取代產物只有兩種。寫出該同分異構體的結構簡式: ▲ 。

（5）根據已有知識並結合本題信息，寫出以CH3CHO為原料製備CH3COCOCOOH的合成路線流程圖(無機試劑任用,合成路線流程圖示例見本題題幹)。 ▲

【回答】

（1）碳碳雙鍵、醛基（2分）水解（或取代）反應（2分）

（2）（2分）

（3）（2分）

一定條件

光刻膠是一種應用廣泛的光敏材料，其合成路線如下(部分試劑、反應條件和產物已略去):已知：Ⅰ．（R1，R2為烴基... 第5張

（4）（2分）（5）（5分）

知識點：烴的衍生物單元測試

題型：推斷題

Tags：光敏 r2 r1 略去光刻膠

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