及其化合物主要用於醫、照相及染料等。是合成化物的基本原料。空氣吹出法從滷水中提*的流程如下:回答下列問...

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問題詳情：

*及其化合物主要用於醫*、照相及染料等。*是合成*化物的基本原料。空氣吹出法從滷水中提*的流程如下:

回答下列問題：

（1）“氧化”時，Cl2過量會將I2氧化為HIO3，寫出生成HIO3的化學方程式_________；

（2）“吹出”在吹出塔中進行，含*滷水從_________(填“塔頂”或“塔底”，下同)進入，熱空氣從_________進入，理由為_________；

（3）吸收塔應選擇耐*材料，原因是_________；

（4）結晶時，發生反應的離子方程式為_________；

（5）從“氧化”所得含*滷水中提取*還可以採用加CCl4的方法，該分離方法為_________；為進一步分離I2和CCl4，向其中加入NaOH溶液與I2反應，生成的I-、IO3-進入水溶液；分液後再*化，即得粗*．加入NaOH後溶液中I-、IO3-的物質的量之比為_________；

（6）H2O2也能發生與Cl2類似的反應，若先用H2O2將滷水中的I-氧化為IO3-，再將其與滷水按一定比例混合、*化製取粗*，處理含I-為254mg/L的滷水1m3，理論上需20%的H2O2_________g。

【回答】

（1）5Cl2+I2+6H2O=2HIO3+10HCl（2）塔頂；塔底；熱空氣密度小，氣體與溶液逆向接觸時有利於提高吹出率；（3）反應生成HI和H2SO4兩種強*；（4） C12+ 2I-=2Cl-+I2；（5）萃取(或萃取、分液)；5:1（6）170 g

【解析】試題分析：滷水中*和*氣發生氧化還原反應生成HCl和HIO3，反應物的接觸時間越長，反應越充分，所以含*滷水應該從塔頂加入，熱空氣從塔底加入，向剩餘液體中加入二氧化硫和水，發生氧化還原反應生成HI和硫*，再向溶液中通入足量*氣，*氣將HI氧化生成*單質，最後通過精製得到*單質。

（1）*氣、*在水溶液中發生氧化還原反應生成**和HCl，反應方程式為5Cl2+I2+6H2O=2HIO3+10HCl，故*為：5Cl2+I2+6H2O=2HIO3+10HCl；

（2）反應物接觸時間越長，反應越充分，熱空氣密度小，且氣體與溶液逆向接觸，有利於提高吹出率，所以含*滷水從塔頂進入，熱空氣從塔底進入，故*為：塔頂；塔底；因熱空氣密度小，且氣體與溶液逆向接觸，有利於提高吹出率；

（3）*和二氧化硫在水溶液中能發生氧化還原反應生成HI和H2SO4兩種強*，*能腐蝕某些物質，所以吸收塔應選擇耐*材料，故*為：反應生成HI和H2SO4兩種強*；

（4）結晶時，通入*氣，將溶液中的*離子置換出來，反應的離子方程式為，C12+ 2I-=2Cl-+I2，故*為：C12+ 2I-=2Cl-+I2；

（5）*在四*化碳中的溶解度遠遠大於在水中的溶解度且*和四*化碳不反應，四*化碳和水不互溶，所以可以採用萃取方法分離；NaOH溶液與I2反應，生成的I-、IO3-進入水溶液，離子反應方程式為6OH-+3I2=5I-+IO3-+3H2O，根據方程式知，加入NaOH後溶液中I-、IO3-的物質的量之比為5：1，故*為：萃取；5：1；

（6）1m3的254mg/L的滷水中n(I-)==2mol，H2O2將滷水中的I-氧化為IO3-，發生的反應為3H2O2+I-=3H2O+IO3-①，**條件下，I-和**根離子反應方程式為5I-+IO3-+6H+=3I2+3H2O②，