通過磁控反應濺*，在玻璃基底上製備了不同濺*温度下的氧化鈦薄膜。
因為先被切開的切口處會因為血壓的關係濺*出血液,這也是噴濺型血漬的成因。
管間距及液膜濺*損失對蒸發換熱特*影響很小。
採用掃描透*電鏡（STEM） ，研究了鋁上磁控濺*沉積鈾薄膜的形貌、組織、結構以及鈾薄膜的生長模型。
在納晶敏化太陽能電池中，載鉑對電極的製備通常有電沉積、濺*和熱解等方法。
現在反應濺*法已被廣泛應用於切削*具、成型工具、注*模具和諸如衝頭和沖模之類的通用器具，以增強其耐磨*和使用壽命。
高z材料因其高熔點和低濺*率近年來受到越來越多的關注，但是難熔材料的脆*等問題仍然是這類材料應用的一大障礙。
用*頻反應濺*法制備出bcn薄膜。
過高的濺*功率使薄膜以非晶態的形式存在.
所述的合金組合物優選形成為用於薄膜應用領域的濺*靶。
一是因畸變層與非畸變層的擴散係數不同，結果由擴散導致交界區出現原子富集；二是離子轟擊的濺*作用和濺*衰減效應使得出現內層的濃度峯。
當劑量增加到足以濺*掉第一代表面發泡時，針孔形成，針孔的密度隨劑量增加而增加。
在理論上考慮了原子級聯碰撞過程中的能量和動量傳輸的不對稱*，給出了一個與實驗結果相符的同位素濺*角分佈表達式。
利用磁控*頻濺*技術製備了ito薄膜。
在不同條件下用*頻濺*方法制備了氮化碳薄膜。
在雙元靶嚴格解的基礎上，*了澤優濺*與原子的半徑大小無關。
通過濺*的真空蒸發鍍膜使超薄切片機上使用的玻璃*口上帶有一層鎢膜。
反應濺*中氧分壓對薄膜的影響也很大，較高的氧氣分壓有助於較好結晶的二氧化鈦薄膜的生成。
脈衝濺*是一種新型的、用於消除直流反應濺*中異常放電的技術。
研究了用銦錫合金靶直流磁控反應濺*製備ito透明號電膜。
在離子束濺*鍍膜機的膜厚控制系統的研究中，由於採用了現代檢測手段，使測量精度大大提高。
*頻濺*沉積的薄膜均勻*和緻密*要優於直流濺*沉積的薄膜。
為改善*頻濺*法制備的防水透濕塗層的外觀和拒水*，對滌綸織物基底上的濺**碳高分子膜的泛黃問題進行了研究。
採用*離子濺*和x*線光電子能譜相結合的方法，檢測焦**鹽鍍銅層和鐵基體界面區含氧量的變化，*了氧化層的存在。
採用磁控*頻濺*法制備光波導用玻璃薄膜。
對於反應濺*，可通過連續改變反應氣體流量製得化學成分比連續變化的梯度薄膜。
在不同的襯底温度下用*頻濺*方法制備了氮化碳薄膜。
春雨啊，嘩嘩地下，雨珠落在湖面上，像珍珠落在玉盤裏四面濺*；雨珠落在乾土上，地皮上陷下一個小坑，像草原姑娘臉上的笑靨。雨好牧草就好，牧草好牲口就好，牲口好牧民的生活就好。
介紹了等離子體化學工藝，特別着重介紹了濺*鍍膜與等離子體化學氣相沉積在粉末冶金中的應用。
同位素角效應是一次濺*效應，還是二次濺*效應？
分析了氘飽和狀態下液態鋰作為包層流動液簾表面的濺*問題，得到了氘飽和狀態下液態和固態鋰的濺*產額。
用*頻濺*的方法制備得的釓鈷膜具有垂直於膜面的單軸各向異*。
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