利用雙晶X*線衍*技術測試了外延層,確定外延層的組分與晶體質量,並利用二次離子質譜儀進行了縱向組分分佈剖析,利用擴展電阻儀確定外延層的電學特*。
介紹了用飛行時間二次離子質譜法對器物中的鉛同位素比值的測量。
他的主要工具是一種叫做二次離子質譜儀的裝置。
用二次離子質譜測量了注入硼離子的深度分佈。
利用原子力顯微鏡、二次離子質譜分析儀和探針,對多晶硅薄膜的高温退火特*進行了實驗研究。
然後他們從細菌中提取出dna,利用高解析二次離子質譜技術分析了其中的化學組成,發現DNA中也含有砷。
使用時間飛行二次離子質譜儀(TOF-S IM S)、X*線光電子能譜儀(XPS)、原子力顯微鏡(AFM)和接觸角測量儀對FTE自組裝膜進行了表徵。